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一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法

申请号: CN200710123582
申请日: 20070704
公开(公告)号: CN100460895C
公开(公告)日: 20090211
IPC分类号: G02B1/10;C23C14/06;C23C14/24
主分类号: G02B1/10
申请(专利权)人: 中国航空工业第一集团公司第六一三研究所
发明人: 刘凤玉
优先权号: 暂未提供
优先权日: 20090211
地区: 河南;41
申请人地址: 471009河南省洛阳市凯旋西路25号
代理人: 李建英
专利代理机构: 中国航空专利中心
本发明属光学薄膜制造技术,用于红外锗基底零件截止滤光膜层的镀制。在光学薄膜范畴,对某一波段范围要求高反射率,相近的另一波段范围高透射率特性的膜系称之为截止滤光膜。未查阅到镀制本发明红外截止滤光膜的报道或资料。本发明的特点是膜层对3.5μm~4.8μm波段范围有高的反射率,对7.5μm~11μm波段范围有高的透射率,镀制此类膜层的光学零件可用于红外双光路光学系统的仪器,具有将两波段光分开的作用,对提高红外光学仪器性能、减小仪器的重量及体积具有重要意义。

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