首页> 专利搜索> 用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法

用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法

申请号: CN95113199
申请日: 19951228
公开(公告)号: CN1183579A
公开(公告)日: 19980603
IPC分类号: G03F1/14;H01L21/00
主分类号: G03F1/14
申请(专利权)人: 日本电气株式会社
发明人: 佐仓直喜
优先权号: JP 327512/94
优先权日: 20030416
地区: 日本;JP
申请人地址: 日本东京都
代理人: 萧掬昌;邹光新
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
由于显影后烘烤中的收缩而使光刻胶掩模(23a) 的表面中出现张力,而形成于光刻胶掩模中的粘附力(23c)吸收 了该张力,因而保持对半导体衬底(22)粘附力,防止了光刻胶图 形出现不希望的变形。

免责声明:搜企信息来源于网络,搜企网不对内容的真实性、准确性和合法性负责,请用户慎重选择使用该信息。搜企网作为信息获取平台不参与用户间因交易而产生的法律纠纷,纠纷由您自行协商解决。

友情提醒:由于网络信息更新速度快、来源较多,当您在使用搜企所提供的信息时,企业的信息可能已经发生变更,请在使用搜企提供的信息前,慎重核实,搜企不做任何形式的保证和担保。

知识产权声明:如网站显示的任何信息侵犯您的知识产权,请您尽快联系搜企网工作人员处理,搜企网保护您合法的知识产权!

联系方式:service#soqi.com(#=@)是处理侵权投诉的专用邮箱,在您的合法权益收到侵害时,欢迎您向该邮箱发送邮件,我们会在3个工作日内给您答复,感谢您对搜企网的关注与支持!